Japonlar üretime başladı: 2 nanometre, teknolojide dengeleri değiştirecek

Japonya merkezli yarı iletken üreticisi Rapidus, 2 nanometre (nm) çip üretim sürecinde önemli bir adım attı.  Şirket, yeni nesil Gate-All-Around (GAA) mimarisine sahip transistörlerin test üretimini resmen başlattı.  Üretim, Çitose kentindeki IIM-1 fabrikasında gerçekleştiriliyor.

SERİ ÜRETİME DOĞRU KRİTİK BİR ADIM

Test üretiminde elde edilen 2 nm yongaların, elektriksel performans açısından belirlenen teknik kriterleri karşıladığı açıklandı. Eşik voltajı, iletim ve sızıntı akımı ile geçiş eğimi gibi parametreler ölçüldü. Teknik detaylar kamuoyu ile paylaşılmasa da, test çiplerinin üretim hattına dahil edilmesi, Ar-Ge sürecinin başarılı bir şekilde ilerlediğini gösteriyor.


ÜRETİM TESİSLERİ 2023'TEN BERİ HAZIRLIK HALİNDE

IIM-1 tesisindeki üretim altyapısının temeli 2023 Eylül'ünde atıldı. Temiz oda inşaatı 2024'te tamamlanırken, 2025 Haziran itibarıyla DUV ve EUV litografi makineleri de dahil olmak üzere 200'den fazla üretim ekipmanı devreye alındı. EUV sistemlerinin kurulumu 2024 Aralık'ında tamamlandı ve ilk üretim denemeleri 2025 Nisan'ında yapıldı.

HER PLAKA AYRI AYRI İŞLENECEK

Rapidus'un benimsediği üretim yöntemi sektörde dikkat çekici. Şirket, tüm üretim adımlarında "tekli plaka işleme" sistemini uygulayacağını duyurdu. Bu yöntemde, her yarı iletken plakası ayrı ayrı işlenir ve kontrol edilir.

TSMC, Samsung ve Intel gibi üreticiler bu yöntemi şu anda sadece belirli adımlar için kullanırken, Rapidus oksidasyon, iyon implantasyonu ve temizleme dahil tüm işlemleri bu yöntemle gerçekleştirmeyi hedefliyor.


HEM AVANTAJLARI HEM DE ZORLUKLARI VAR

Bu üretim sistemi sayesinde her plaka gerçek zamanlı olarak analiz edilebiliyor, hatalar erken tespit ediliyor ve süreç dinamik olarak optimize edilebiliyor. Ancak, yöntemin bazı dezavantajları da var. Üretim süresinin uzaması, maliyetlerin artması ve karmaşık ekipman ihtiyacı önemli teknik zorluklar arasında yer alıyor.

Buna rağmen Rapidus, düşük hata oranı, yüksek verimlilik ve esnek üretim altyapısı sayesinde bu yöntemin uzun vadede 2 nm ve ötesi teknolojilerde rekabet avantajı sağlayacağına inanıyor.